На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Вернуться к списку

МАГНИТНАЯ СИСТЕМА ПЛАНАРНОГО МАГНЕТРОНА

Номер публикации патента: 95120792

Вид документа:  A1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  95120792

Реферат

Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно - магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытий на различные подложки, в том числе на полимерные пленки. Достигаемый технический результат - повышение эффективности магнитной системы, обеспечивающей большую зону эрозии и, следовательно, более высокий коэффициент использования материала мишени, большую скорость нанесения покрытий, ликвидацию непроводящих (диэлектрических) участков на поверхности мишени при реактивных процессах распыления и обеспечение работы магнетрона при низких давлениях (менее 0,1 Па) и напряжениях разряда ≅ 400 В при плотностях тока ≥ 60 мА/см². Новый технический результат достигается тем, что магнитная система, состоящая из радиально расположенных магнитов с плотностью магнитной энергии ≅ 40 кДж/м³ и вертикально расположенных и противоположно направленных периферийных и центральных магнитов с плотностью магнитной энергии > 40 кДж/м³, снабжена магнитопроводом из ферромагнитного материала, замыкающим нижние торцы периферийных и центральных магнитов и отстоящих от нижней поверхности радиальных магнитов на величину 5 - 10 мм, причем на верхних поверхностях периферийных и центральных магнитов установлены сплошные полюсные наконечники из ферромагнитного материала.

Вернуться к списку