|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
| АППАРАТ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО СЛОЯ НА ПОДЛОЖКУ СУХИМ СПОСОБОМ |  |
Номер публикации патента: 95110218 |  |
| Вид документа: | A1 | | Страна публикации: | RU | | Рег. номер заявки: | 95110218 |
|
|
|
| Имя заявителя: | Институт микроэлектроники РАН | | Изобретатели: | Симаков Н.Н.
Морозов О.В.
Федоров В. |
Реферат | |
Изобретение относится к оборудованию микролитографии как одной из стадий технологии микроэлектроники и предназначено для формирования резистных масок. Оно также может быть использовано в производстве фоточувствительных материалов, например, высокоразрешающей фотопленки. Аппарат включает в себя заключенную в корпус вакуумную камеру, в нижней по потоку части которой расположен подложкодержатель для размещения подложки перпендикулярно продольной оси камеры, газоразрядную трубку с системой возбуждения плазмы, присоединенную к верхней по потоку газа части вакуумной камеры, системы напуска газов и паров мономера и откачную и отличается тем, что он дополнительно содержит выполненую соосно с вакуумной камерой камеру смешения газовых потоков, имеющую коаксиально расположенный патрубок для ввода газового потока, несущего фоточувствительный компонент (ФЧК), а газоразрядная трубка присоединена к камере смешения радиально, причем свободный конец патрубка расположен между выходом из газоразрядной трубки и сечением сочленения камеры смешения с вакумной камерой. Другие особенности аппарата заключаются в том, что вакуумная камера выполнена обогреваемой и термостатируемой, а подложкодержатель охлаждаемым, вакуумная камера выполнена в форме безотрывного диффузора, аппарат дополнительно снабжен камерой для
испарения ФЧК, соосно расположенной перед камерой смешения, в его корпусе выполнен обогреваемый канал для продувки испарительной камеры газом-носителем фоточувствительного компонента, испарительная камера выполнена разъемной от корпуса вакуумной камеры. Совокупность признаков данного устройства обеспечивает возможность сухого нанесения на подложку достаточно равномерного по толщине слоя фоточувствительного материала путем соосаждения его полимерной основы в зоне послесвечения плазмы и предварительно сублимированного ФЧК без засветки последнего плазмой. Это обусловлено тем, что в аппарате предлагаемой конструкции на всем своем пути вплоть до подложки ФЧК отделен как от прямого воздействия плазмы, так и от ее излучения. Кроме того устройство обеспечивает удовлетворительную для практических целей скорость процесса нанесения и некоторые удобства его проведения.
|
Поиск патентов