На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Вернуться к списку

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНОЙ МАСКИ ДЛЯ НАНОЛИТОГРАФИИ

Номер публикации патента: 95103451

Вид документа:  A1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  95103451

Реферат

Изобретение относится к технологии микро- и наноэлектроники и может быть использовано для изготовления защитной маски, необходимой для производства твердотельных приборов с характерными нанометровыми размерами элементов. Предлагается способ изготовления защитной маски для нанолитографии, в котором под защитным слоем формируют вспомогательный слой из материала, который возможно селективно вытравить без нарушений защитного слой и технологической структуры, алокальные области защитного слоя, в которых необходимо создать окна (рисунки), отделяют от подложки путем селективного вытравливания вспомогательного слоя, затем в этих областях защитного слоя создают и концентрируют механические напряжения, приводящие к контролируемому трещинообразованию только в защитном слое и созданию необходимых окон (рисунка) в нем. Селективное вытравливание вспомогательного слоя осуществляется через предварительно изготовленное отверстие, расположенное в заданной локальной области основного слоя. Защитный и вспомогательный слои выращивают в едином технологическом процессе при выращивании твердотельной структуры.

Вернуться к списку