

	Главная Патентный отдел Технологии Справочник ГРНТИ Прием Наши координаты Обратная связь

Поиск патентов

Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

Патентный отдел

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

ПЛАЗМЕННАЯ СИСТЕМА

Номер публикации патента: 2476953

Вид документа:	C2
Страна публикации:	RU
Рег. номер заявки:	2010140972/07

Получить полное описание патента

Редакция МПК:	6
Основные коды МПК:	H01J037/32
Аналоги изобретения:	JP 62170477 A, 27.07.1987. US 2006196419 A1, 07.09.2006. GB 2030180 A, 02.04.1980. RU 2291223 C2, 10.01.2007. RU 2311492 U1, 27.11.2007. JP 62170477 A, 27.07.1987.

Имя заявителя:	АЛИТУС КОРПОРЕЙШН, С.А. (UY)
Изобретатели:	БИАНА Рикардо Энрике (AR)
Патентообладатели:	АЛИТУС КОРПОРЕЙШН, С.А. (UY)

Реферат

Изобретение относится к системам для химического осаждения плазмой. Заявленная система характеризуется тем, что выборочные поверхности трубчатых основ могут быть подвергнуты обработке для осаждения тонких пленок целевого вещества, где один из электродов, применяемых в плазменной системе, образован основой или заготовкой. Техническим результатом является обеспечение возможности уменьшения габаритов используемых плазменных реакторов. 7 з.п. ф-лы, 7 ил.

Вернуться к списку

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь

Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"