US 20050084705 A1, 21.04.2005. RU 2138094 C1, 20.09.1999. US 5658114 A, 19.08.1997. EP 1098353 A2, 09.05.2001.
Имя заявителя:
Эрликон Солар АГ (CH)
Изобретатели:
ЦИНДЕЛЬ Арно (CH) ПОППЕЛЛЕР Маркус (AT) ЗИМИН Дмитрий (CH) КУН Хансйорг (CH) КЕРШБАУМЕР Йорг (AT)
Патентообладатели:
Эрликон Солар АГ (CH)
Приоритетные данные:
02.03.2007 US 60/892,689
Реферат
Изобретение относится к технологии вакуумной обработки подложек большой площади путем осаждения пленок из паровой или газовой фазы, используемых, в частности, при изготовлении тонкопленочных солнечных элементов. Установка содержит по меньшей мере одну загрузочную шлюзовую камеру (2), по меньшей мере две следующие за ней камеры (4, 5) осаждения, по меньшей мере одну разгрузочную шлюзовую камеру (10) и средства перемещения подложек, последующей обработки подложек и/или транспортировки подложек через различные камеры и внутри них. Камеры осаждения предназначены для работы при по существу одинаковых параметрах нанесения покрытия, включая расход газа, давление, продолжительность обработки и используемые химические вещества. Камеры установлены с образованием цепи камер осаждения, в каждой из которых выполняют часть осаждения. Обеспечиваются равномерные свойства осажденного на подложки слоя, а также повышается производительность. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 5 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента