Настоящее изобретение относится к полиуретановым композициям для производства голографических сред, содержащим (А) один или более полиизоцианатов, (В) один или более реагирующих с изоцианатом блок-сополимеров, (С) одно или более соединений, имеющих группы, которые при актиничном облучении реагируют с соединениями, ненасыщенными по этиленовому типу, с полимеризацией, (D) необязательно один или более свободно-радикальных стабилизаторов и (Е) один или более фотоинициаторов. Также описаны голографические среды, полученные из таких полиуретановых композиций. Технический результат - получение полиуретановых систем, которые имеют превосходную совместимость полиуретанового полимера матрикса с имеющимися в составе радиационно-отверждаемыми мономерами, ненасыщенными по олефиновому типу, и обладают значительно более высокой прозрачностью. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 3 табл.
Поиск патентов
Получить полное описание патента