DE 4412160 A1, 13.10.1994. US 6107008 A, 22.08.2000. DE 102005054723 A1, 24.05.2007. US 4945032 A, 31.07.1990. DE 19606128 A1, 21.08.1997. WO 9743696 A1, 20.11.1997. RU 2005122938 A, 20.01.2006.
Способ послойного производства трехмерного объекта, включающий в себя первый этап размещения слоя материала в форме порошка на основании или на слое, который уже был ранее отвержден в выбранных местах, и второй этан селективного направления сфокусированного пучка фотонов или частиц (8') в выбранные места слоя. В процессе па втором этапе пучок фотонов или частиц (8') выбран таким образом, чтобы он вызывал изменение поглощения материала при попадании в слой. После завершения второго этапа выполняют третий этап, на котором слой облучают посредством электромагнитного излучения (18') таким образом, чтобы материал однородно отверждался в тех местах слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта. Устройство для производства трехмерного объекта посредством последовательного отверждения слоев отверждаемого материала в форме порошка по местам, соответствующим поперечному сечению формируемого объекта под действием излучения, включает в себя основание (4), имеющее по существу плоскую поверхность, которая служит для поддержания формируемого объекта, устройство для нанесения (10), предназначенное для нанесения слоя материала па поверхность основания или па слой, который уже был по меньшей мере частично отвержден, устройство облучения (7), которое обеспечивает селективное направление электромагнитного пучка или пучка частиц (8') па места слоя, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта, и лучистый нагреватель (18), который способен испускать излучение (18') с максимумом при длине волны в диапазоне 1000-6000 нм для нагревания слоя порошка, а также устройство имеет регулирующее средство (19), которое вводит время ожидания после завершения селективного облучения слоя перед нанесением нового слоя. Способ и устройство имеют варианты их осуществления в объеме признаков, раскрытых в соответствующих пунктах формулы. Техническим результатом, который достигается при использовании способа и устройства по изобретениям, является обеспечение селективного отверждения материала только в тех точках, которые соответствуют поперечному сечению формируемого объекта. 4 н. и 17 з.п. ф-лы, 3 ил., 4 пр.
Поиск патентов
Получить полное описание патента