Изобретение относится к покрытию подложек с одной или более сторон каталитически активным материалом для их использования в качестве электродов, применяемых при хлорщелочном электролизе и/или получении водорода. В вакуумную камеру загружают по меньшей мере одну подложку. Осуществляют закрытие и откачивание вакуумной камеры. Очищают подложку путем введения в камеру газообразного восстановителя. Увеличивают поверхность подложки путем осаждения на нее парообразного компонента, который, предпочтительно, идентичен материалу подложки. Наносят покрытие методом, выбранным из группы процессов плазменного осаждения, физического осаждения из газовой фазы и процессов распыления, при этом на поверхность подложки наносят один или более металлов или их оксидов. Наполняют камеру воздухом и извлекают из нее покрытую подложку. Способ обладает простотой, высокой производительностью и регулируемостью процесса. 2 н. и 9 з.п. ф-лы.
Поиск патентов
Получить полное описание патента