Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОПОРИСТОГО НАНОРАЗМЕРНОГО ПОКРЫТИЯ

Номер публикации патента: 2464106

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2011117993/05 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: B05D005/00   B82B003/00    
Аналоги изобретения: HERNANDEZ-TORRES J. и др. Optical properties of sol-gel SiO2 films containing nickel, Thin Solid Films, 2005, т.472, с.130-135. RU 2260569 С1, 20.09.2005. RU 2404923 С1, 27.11.2010. RU 2395548 C1, 27.07.2010. RU 2310833 C1, 20.11.2007. US 2010068505 A1, 18.03.2010. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет" (ТГУ) (RU) 
Изобретатели: Козик Владимир Васильевич (RU)
Иванов Владимир Константинович (RU)
Борило Людмила Павловна (RU)
Бричкова Виктория Юрьевна (RU)
Бричков Антон Сергеевич (RU)
Заболотская Анастасия Владимировна (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет" (ТГУ) (RU) 

Реферат


Изобретение относится к технологии получения тонкопленочных материалов на основе систем двойных оксидов, применяемых в быстроразвивающихся областях электронной техники и светотехнической промышленности, производстве материалов катализаторов, в качестве функционально-чувствительных, декоративных, фильтрующих и перераспределяющих излучение покрытий. Способ получения высокопористого наноразмерного покрытия включает приготовление пленкообразующего раствора с последующим нанесением его на поверхность изделия, сушкой, отжигом и охлаждением. Свежеприготовленный пленкообразующий раствор выдерживают в течение 8-13 суток при температуре 6-8°С, сушку проводят при температуре 60°С в течение 30-40 минут, с последующим нелинейным нагревом до 800-900°С в атмосфере воздуха - в первые 15-20 минут скорость нагрева максимальна и составляет 22°С/мин, в следующие 17 минут скорость нагрева поддерживают на уровне 18°С/мин, затем в течение 12 минут скорость нагрева составляет 12°С/мин, последние 40-20 минут скорость нагрева поддерживают на уровне 0,5°С/мин - и выдержкой при 800-900°С в течение 1 часа, постепенным охлаждением в условиях естественного остывания муфельной печи, при содержании следующих компонентов в пленкообразующем растворе: тетраэтоксисилан, соляная кислота, дистиллированная вода, соль металла СоСl 2·6Н2О и этиловый спирт. 1 ил., 2 пр.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"