RU 2145643 C1, 20.02.2000. RU 2145645 C1, 20.02.2000. RU 2144096 C1, 10.01.2000. JP 08-243630 A, 24.09.1996. JP 2008144247 A, 26.06.2008.
Имя заявителя:
Общество с ограниченной ответственностью "ФАКТОРИЯ ЛС" (RU)
Изобретатели:
Индейцев Дмитрий Анатольевич (RU) Кузнецов Вячеслав Геннадьевич (RU) Пониматкин Владимир Павлович (RU)
Патентообладатели:
Общество с ограниченной ответственностью "ФАКТОРИЯ ЛС" (RU)
Реферат
Изобретение относится к технологии обработки поверхности деталей в вакууме и может быть использовано для удаления с поверхности деталей окалины, окисных пленок, технологической смазки, различных загрязнений и отложений, образующихся в процессе эксплуатации, а также для упрочнения или отпуска приповерхностного слоя деталей, удаления заусенцев и микровыступов и т.д. Технический результат - повышение качества обработки поверхности изделии и упрощение процесса обработки. Заявленный способ обработки включает возбуждение разряда, обработку поверхности катодными пятнами вакуумной дуги и перемещение их вдоль участка обработки. При этом осуществляют перемещение катодной области дуги вдоль участка обработки поверхности изделия путем изменения силы токов через токоподводы отрицательного потенциала, подключенные к двум и более точкам обрабатываемой поверхности, при одновременном непрерывном или дискретном перемещении положительного электрода и обрабатываемой поверхности относительно друг друга. Устройство для реализации способа содержит источник питания дуги, положительный электрод и в качестве катода - обрабатываемое изделие, размещенное в вакууме. При этом токоподводы отрицательного потенциала подключены к обрабатываемой поверхности в двух и более точках через регуляторы тока. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 2 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента