ВАРАДАН В. и др. Мир электроники, ВЧ МЭМС и их применение. - М.: Техносфера, 2004. ГРИГОРЬЯНЦ А.Г. и др. Технологические процессы лазерной обработки. - М.: МГТУ им. Н.Э.Баумана, 2006. SU 1118429 A1, 15.10.1984. BY 11928 C1, 30.06.2009. US 6225007 B1, 01.05.2001.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА") (RU)
Изобретатели:
Чесноков Владимир Владимирович (RU) Чесноков Дмитрий Владимирович (RU) Михайлова Дарья Сергеевна (RU)
Патентообладатели:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА") (RU)
Реферат
Изобретение относится к оптическим технологиям, в частности к лазерным методам формирования на подложках структурных образований нано- и микроразмеров для нано- и микромеханики и микроэлектроники. Способ включает осаждение частиц вещества из газовой фазы с использованием локального нагрева области осаждения лазерным излучением. Вещество в газовой фазе диспергировано в виде аэрозоля. Осуществляют локальный нагрев области осаждения лазерным импульсным излучением и осуществляют припекание частиц аэрозоля к подложке. Длительность импульса лазерного излучения не менее той, при которой длина тепловой волны в частице больше размера частицы в направлении излучения. Материал упомянутых частиц поглощает лазерное излучение. Техническим результатом изобретения является увеличение производительности нанесения покрытий с сохранением высокой разрешающей способности способа. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента