WO 2006088024 A1, 24.08.2006. RU 2142519 C1, 10.12.1999. RU 2167955 C1, 27.05.2001. RU 2288296 C2, 27.11.2006. JP 2002-180249 A, 26.06.2002. JP 2007-277695 A, 25.10.2007.
Имя заявителя:
УЛВАК, ИНК. (JP)
Изобретатели:
ЙОКОИ Син (JP) НОМУРА Цунехито (JP) НАКАЦУКА Ацуси (JP) ТАДА Исао (JP)
Патентообладатели:
УЛВАК, ИНК. (JP)
Реферат
Установка предназначена для вакуумного осаждения металлического слоя на материал основы. Установка (10) включает в себя захватывающее заряды тело (25), размещенное между охлаждающим полым роликом (14) и блоком нейтрализации (23). Захватывающее заряды тело (25) захватывает заряженные частицы из блока нейтрализации (23) к полому ролику (14). Соответственно, натекшие из блока нейтрализации (23) заряженные частицы предохраняются от достижения полого ролика (14), что подавляет изменение потенциала смещения, приложенного к полому ролику 14 для приведения его в тесный контакт с материалом основы (12), и сохраняет стабильную электростатическую силу притяжения относительно материала основы (12). Соответственно, сила адгезии между материалом основы и охлаждающим роликом сохраняется стабильной и, таким образом, предотвращается термическая деформация материала основы. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента