Учреждение Российской академии наук Институт высокомолекулярных соединений РАН (RU)
Изобретатели:
Рудая Людмила Ивановна (RU) Шаманин Валерий Владимирович (RU) Волков Алексей Васильевич (RU) Полетаев Сергей Дмитриевич (RU) Соловьёв Владимир Степанович (RU) Наследов Дмитрий Григорьевич (RU) Черница Борис Викторович (RU) Марфичев Алексей Юрьевич (RU) Большаков Максим Николаевич (RU)
Патентообладатели:
Учреждение Российской академии наук Институт высокомолекулярных соединений РАН (RU)
Реферат
Способ может быть использован для создания сложных дифракционных оптических элементов (ДОЭ) - линз Френеля, киноформов, фокусаторов, корректоров и др. Способ включает нанесение фоторезистного слоя на субстрат, операции сушки, экспонирования, проявления пленок, их термозадубливание и реактивное или плазмохимическое травление субстрата смесью газов через маскирующий слой термозадубленного фоторезиста. В качестве фоторезиста используют термостойкую светочувствительную композицию поли(о-гидроксиамида) на основе 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и изофталоилхлорида со светочувствительными производными 1,2-нафтохинондиазида. Нанесение фоторезиста осуществляют на субстрат, нагретый до 80-90°С. Сушку проводят при 90±10°С в течение 30-40 мин. Термозадубливание проводят в вакууме ((2-4)×10-5 мм рт.ст.) при плавном повышении температуры от 200 до 370°С в течение 10-15 мин с последующей выдержкой при 370°С в течение 30 мин. Ионное и реактивное плазмохимическое травление осуществляют смесью газов: SiCl4+Ar, фреон 12 + кислород. Технический результат - повышение точности изготовления микрорельефа на границах разрыва фазовой функции любой конфигурации и расширение технологических возможностей. 3 з.п. ф-лы, 1 табл.
Поиск патентов
Получить полное описание патента