Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИНВЕРТОРА И ИНВЕРТОР

Номер публикации патента: 2433504

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009147030/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/8236   H01L029/786    
Аналоги изобретения: ЕР 0354372 А1, 14.02.1990. US 2006113565 A1, 01.06.2006. Barquinha et all; Influence of the semiconductor thickness on the electrical properties of transparent TFTs based on indium zinc oxide. JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, NORTH-HOLLAND PHYSICS PUBLISHING. AMSTERDAM, NL - Vol. 352, N 9-20, Page(s) 1749-1752. JP 2005072461 A, 17.03.2005. SU 1817240 A1, 23.05.1993. 

Имя заявителя: КЭНОН КАБУСИКИ КАЙСЯ (JP) 
Изобретатели: ОФУДЗИ Масато (JP)
АБЕ Кацуми (JP)
ХАЯСИ Рио (JP)
САНО Масафуми (JP)
КУМОМИ Хидея (JP) 
Патентообладатели: КЭНОН КАБУСИКИ КАЙСЯ (JP) 
Приоритетные данные: 18.05.2007 JP 2007-133039 

Реферат


Изобретение относится к инвертору, состоящему из тонкопленочных транзисторов с оксидным полупроводниковым слоем. Сущность изобретения: способ изготовления инвертора, работающего в режиме обогащения/обеднения (E/D), имеющего множество тонкопленочных транзисторов на одной и той же подложке, канальные слои которых состоят из оксидного полупроводника, содержащего по меньшей мере один элемент, выбранный из In, Ga и Zn, содержит этапы, на которых формируют первый транзистор и второй транзистор, толщина канальных слоев первого и второго транзисторов является взаимно различной, и применяют термообработку по меньшей мере к одному из канальных слоев первого и второго транзисторов. Изобретение обеспечивает расширение технических средств, позволяющих получить инвертор с оксидными полупроводниковыми тонкопленочными транзисторами, имеющими различные пороговые напряжения, упрощение способа получения инвертора с такими характеристиками, снижение его стоимости. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 18 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"