Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


НИТРИДНОЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЕ УСТРОЙСТВО

Номер публикации патента: 2426197

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010108177/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L027/15   B82B001/00    
Аналоги изобретения: RU 2371806 C1, 27.10.2009. RU 2369942 C1, 10.10.2009. RU 2262155 C1, 10.10.2005. US 2009050874 A1, 26.02.2009. 

Имя заявителя: САМСУНГ ЛЕД КО., ЛТД. (KR) 
Изобретатели: ЛИ Сеонг Сук (KR)
Лундин Всеволод Владимирович (RU)
Сахаров Алексей Валентинович (RU)
Заварин Евгений Евгеньевич (RU)
Цацульников Андрей Федорович (RU)
Николаев Андрей Евгеньевич (RU)
ХАН Джае Воонг (KR)
ПАРК Хее Сеок (KR) 
Патентообладатели: САМСУНГ ЛЕД КО., ЛТД. (KR) 

Реферат


Изобретение относится к нитридному полупроводниковому светоизлучающему устройству. Сущность изобретения: нитридное полупроводниковое устройство содержит слой нитридного полупроводника n-типа, слой нитридного полупроводника p-типа, активный слой, сформированный между слоями нитридного полупроводника n-типа и p-типа посредством поочередного наложения слоев с квантовыми ямами и квантовых барьерных слоев, электронный запирающий слой, сформированный между активным слоем и слоем нитридного полупроводника p-типа, и слой-коллектор дырок, сформированный между активным слоем и электронным запирающим слоем и включающий область, имеющую более высокий энергетический уровень валентной зоны, чем уровень легирования слоя нитридного полупроводника p-типа. Изобретение позволяет повысить эффективность излучения света благодаря увеличению концентрации дырок, входящих в активный слой, и способно устранять недостаток, заключающийся в уменьшении квантовой эффективности, когда прилагается сильный ток. 9 з.п. ф-лы, 6 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"