JP 2003-0499273 A, 21.02.2003. RU 2208658 C2, 20.07.2003. RU 2167955 C2, 10.04.2001. RU 2024647 C1, 15.12.1994. JP 3183782 A, 09.08.1991. JP 51112489 A, 04.10.1976. WO 02/086932 A1, 31.10.2002.
Имя заявителя:
КАБУСИКИ КАЙСЯ КОБЕ СЕЙКО СЕ (JP)
Изобретатели:
ТАМАГАКИ Хироси (JP)
Патентообладатели:
КАБУСИКИ КАЙСЯ КОБЕ СЕЙКО СЕ (JP)
Приоритетные данные:
13.02.2007 JP 2007-031585
Реферат
Изобретение относится к устройству для плазменного химического парофазного осаждения пленки на поверхности полосообразной подложки и может найти применение при изготовлении дисплеев. Барабаны для осаждения (2 и 3) устройства расположены напротив, параллельно друг другу, таким образом, чтобы подложка S, намотанная на них, была обращена к каждому. Элементы 12 и 13, генерирующие магнитное поле, которое сводит плазму к поверхности барабана, обращенного к зазору 5 между барабанами, расположены в каждом барабане 2 и 3 для осаждения. В устройстве имеется источник питания плазмы 14, полярность которого переменно реверсируется между одним электродом и другим электродом. Труба для подачи газа 8 предназначена для подачи газа, формирующего пленку, в зазор 5. Средство для вакуумирования предназначено для вакуумирования зазора. Один электрод источника 14 питания плазмы соединен с одним барабаном 2 для осаждения, а другой его электрод соединен с другим барабаном 3 для осаждения. В результате устройство позволяет снизить осаждение пленки на внутренней части вакуумной камеры и предотвратить отслоение пленки. 4 з.п. ф-лы, 7 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента