Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО БОРИРОВАНИЯ

Номер публикации патента: 2415965

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008115510/02 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C23C008/36   C23C014/48   C23C008/68    
Аналоги изобретения: SU 1832751 A1, 20.01.1998. RU 2003731 C1, 30.11.1993. RU 2104327 C1, 10.02.1998. SU 1786182 A1, 07.01.1993. US 6783794 В1, 31.08.2004. US 2005139236 A1, 30.06.2005. 

Имя заявителя: СКЭФФКО ИНДЖИНИРИНГ ЭНД МЭНЬЮФЭКЧУРИНГ, ИНК. (US) 
Изобретатели: СКЭФФ Хабиб (US) 
Патентообладатели: СКЭФФКО ИНДЖИНИРИНГ ЭНД МЭНЬЮФЭКЧУРИНГ, ИНК. (US) 
Приоритетные данные: 22.09.2005 US 60/720,251 

Реферат


Изобретение относится к способу получения износоустойчивых металлических поверхностей. Способ плазменного борирования металлической поверхности из титана, из сплава на основе титана, из стали или из феррохрома включает введение в реакционную камеру КВХ4, в котором Х представляет собой галоген, нагревание КВХ4 при температуре, достаточной для выделения ВХ3, и приложение плазменного разряда к ВХ3 для создания активированных борсодержащих частиц для диффундирования в металлическую поверхность. В альтернативном способе осуществления изобретения проводят термическое разложение КВХ4 с образованием КХ и ВХ3, направляют ВХ3 в плазму, сформированную инертным газом, при этом состав и условия формирования плазмы подбирают так, что ВХ3 разлагается на BX2+и X-, и осуществляют диффундирование ВХ2+ в металлическую поверхность. Получается износостойкая металлическая поверхность, полученная без изменения объема субстрата при борировании, осуществляемом при сниженном расходе ядовитых химикатов. 2 н. и 11 з.п. ф-лы.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"