Изобретение относится к нанесению тонкого слоя жидкости на элементы, в частности для фотоэлектрического применения. Сущность изобретения: устройство (10) для нанесения равномерного тонкого слоя жидкости, в частности фосфорной кислоты, на субстраты (12), в частности на кремниевые элементы для фотоэлектрического применения, имеет технологическую камеру (14), содержащую сосуд (16) для жидкости и высокочастотное ультразвуковое устройство (11), преобразующее жидкость в пары жидкости (15), транспортер (13), установленный под отводящим пары жидкости каналом (25) технологической камеры (14), для субстратов (12). Для создания устройства (10) такого типа внутреннее поперечное сечение отводящего пары жидкости канала (25) технологической камеры (14) сужается по направлению к транспортеру (13) и выходит в проходной канал (40) для субстратов (12), который покрывает транспортер (13), при этом внутреннее поперечное сечение выходного конца отводящего пары жидкости канала (25) и проходного канала (40) соответствуют друг другу и предпочтительно равны. Изобретение позволяет наносить жидкость на указанные кремниевые элементы значительно более равномерно в отношении как площади поверхности, так и объема. 3 н. и 17 з.п. ф-лы, 2 ил.