Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ БОРОМ ОБЛАСТЕЙ p - n ПЕРЕХОДА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ И ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ

Номер публикации патента: 2399115

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009130774/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/265    
Аналоги изобретения: US 5037767 A, 06.08.1991. JP 11150181 A, 02.06.1999. JP 2005051191 A, 24.02.2005. KR 20090034535 A, 08.04.2009. SU 1787413 A1, 15.01.1994. 

Имя заявителя: Открытое акционерное общество "Восход"-Калужский радиоламповый завод (RU) 
Изобретатели: Болдин Вячеслав Николаевич (RU)
Безруков Александр Владимирович (RU)
Барабанщиков Владимир Алексеевич (RU) 
Патентообладатели: Открытое акционерное общество "Восход"-Калужский радиоламповый завод (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области технологии и изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем. Способ ионного легирования бором областей р-n перехода полупроводниковых приборов и интегральных схем включает окисление кремниевых пластин, вытравливание окон в маскирующем слое окисла кремния и ионное легирование бором областей р-n перехода с последующей активацией примесей бора. Отличительными особенностями способа является то, что в вытравленных окнах создают слой окисла кремния. Затем перед ионным легированием бором областей р-n перехода осаждают нитрид кремния не только на окисленную поверхность кремниевых пластин, но и на слой окисла кремния, созданный в вытравленных окнах, при этом величина суммарной толщины окисла кремния и нитрида кремния в вытравленных окнах и величина энергии легирования находятся между собой в определенном соотношении. Изобретение обеспечивает улучшение электрических характеристик полупроводниковых приборов и интегральных схем. 1 ил.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"