RU 2180160 C1, 27.02.2002. RU 21220518 C1, 27.12.2003. RU 2199976 C2, 10.03.2003. RU 2195961 C2, 10.01.2003. Пауль В. Электромагнитные ловушки для заряженных и нейтральных частиц.: УФН, 1990, т.160, вып.12 с.109-127. Е.В.Калашников, Т.Г.Костицына Термодинамические свойства эрозионной плазмы диафрагменного разряда на струях в вакууме, ТВТ, 2000, т.38, 2, с.194-199.
Имя заявителя:
Федеральное государственное унитарное предприятие Научно-исследовательский институт комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем (ФГУП НИИКИ ОЭП) (RU)
Изобретатели:
Калашников Евгений Валентинович (RU)
Патентообладатели:
Федеральное государственное унитарное предприятие Научно-исследовательский институт комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем (ФГУП НИИКИ ОЭП) (RU)
Реферат
Изобретение относится к способу и устройству для получения покрытий. Изобретение позволяет стабильно получать высококачественные покрытия из широкого класса материалов с высокой адгезией к подложкам из металлов, диэлектриков, полупроводников. Покрытие получают путем ионного осаждения на предварительно очищенную подложку, которое осуществляют из осевой зоны потока струйного диафрагменного разряда с энергией Е ионов, соответствующей условию: Ecвpacп, гдe Есв - энергия связи атомов синтезируемого вещества слоя покрытия, кэВ, Ерасп - энергия распыления вещества в синтезируемом слое покрытия, кэВ, и с заданной длительностью. После формирования покрытия осуществляют отжиг в течение промежутка времени, достаточного для рекомбинации междоузельных атомов и вакансий, насыщения незаполненных химических связей в слое покрытия и образования устойчивых химических соединений после окончания процесса хемосорбции на поверхности покрытия. Сепарирующая камера и камера осаждения устройства герметично присоединены к разрядной камере. Сепарирующая камера размещена перед камерой осаждения и выполнена с входным окном в виде экрана с формой и отверстием с диаметром, равным диаметру осевой зоны струи разряда, и с выходным окном в виде геометрического сопла, размеры и форма которого обеспечивают сверхзвуковое ускорение потока плазмы. Высоковольтный импульсный источник электропитания выполнен с возможностью получения заданной амплитуды тока разряда. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента