Dobrovol's'kii A.M., Evsyukov A.N., Goncharov A.A., Protsenko I.M. Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles, Problems of Atomic Science and Technology, 2007, 1. Series; Plasma Physics (13), p.151-153. RU 2070944 C1, 27.12.1996. SU 364689 A, 02.03.1973. RU 2311492 C1, 27.11.2007. US 5178743 A, 12.01.1993. US 5228963 A, 20.07.1993.
Имя заявителя:
Институт сильноточной электроники СО РАН (RU)
Изобретатели:
Работкин Сергей Викторович (RU) Соловьев Андрей Александрович (RU) Сочугов Николай Семенович (RU)
Патентообладатели:
Институт сильноточной электроники СО РАН (RU)
Реферат
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к малогабаритному магнетронному распылительному устройству обращенного типа, и может найти использование для нанесения тонких пленок металлов и их соединений в вакууме на тонкие проволоки и волокна. Обращенный цилиндрический магнетрон содержит анод, водоохлаждаемый цилиндрический катод, магнитную систему, создающую над поверхностью катода магнитное поле. Диаметр распыляемого цилиндрического катода составляет 0,5-5 мм, а устройство работает при давлении рабочего газа 101÷102 Па и индукции магнитного поля над поверхностью катода 2-10 кГс. Устройство обеспечивает повышение эффективности использования распыленного с катода материала в формировании покрытия посредством значительного уменьшения диаметра цилиндрического катода. 2 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента