Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ДЕТЕКТОР ИОНИЗИРУЮЩИХ ИЗЛУЧЕНИЙ

Номер публикации патента: 2386982

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009103171/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01T001/24    
Аналоги изобретения: RU 2178602 С2, 20.01.2002. RU 2231808 C1, 27.06.2004. EP 0777277 A1, 04.06.1997. US 6043495 A, 28.03.2000. 

Имя заявителя: ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" (RU) 
Изобретатели: Васенков Александр Анатольевич (RU)
Ильичев Эдуард Анатольевич (RU)
Кацоев Валерий Витальевич (RU)
Кацоев Леонид Витальевич (RU)
Кочержинский Игорь Константинович (RU)
Полторацкий Эдуард Алексеевич (RU)
Рычков Геннадий Сергеевич (RU)
Гнеденко Валерий Герасимович (RU)
Федоренко Станислав Николаевич (RU) 
Патентообладатели: ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к твердотельным детекторам ионизирующих излучений. В твердотельный детектор ионизирующих излучений, содержащий полупроводниковую подложку с омическим контактом к ее тыльной стороне, с расположенным на ее лицевой стороне изотипным подложке полупроводниковым слоем, с расположенным на этом слое полупроводниковым высокоомным слоем, с расположенным на высокоомном слое слоем противоположного подложке типа проводимости и расположенным на последнем контактным слоем, причем последние два слоя выполнены в виде гальванически не связанных областей, дополнительно вводят микроструктурированный слой из алмаза С*, слаболегированный акцепторами, расположенный на упомянутом выше контактном слое, и второй контактный слой, расположенный на лицевой стороне упомянутого алмазного микроструктурированного слоя. Технический результат - повышение чувствительности детектора. 3 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"