Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИНДИЕВЫХ СТОЛБИКОВ

Номер публикации патента: 2371808

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008111768/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/441    
Аналоги изобретения: Jutao Jiang at all. Infrared Physics and technology. 45 (2004), 143-151. RU 2207660 C1, 27.06.2003. SU 1769635 A1, 20.01.2008. US 5304500 A, 19.04.1994. US 3373481 A, 19.03.1968. JP 63296272 A, 02.12.1988. 

Имя заявителя: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "Орион" (RU) 
Изобретатели: Акимов Владимир Михайлович (RU)
Болтарь Константин Олегович (RU)
Васильева Лариса Александровна (RU)
Климанов Евгений Алексеевич (RU)
Лисейкин Виктор Петрович (RU)
Поварихина Вера Васильевна (RU) 
Патентообладатели: Федеральное государственное унитарное предприятие "НПО "Орион" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к технологии получения индиевых столбиков для микросборок интегральных схем или ИК-фотодиодных матриц методом перевернутого кристалла. Сущность изобретения: для изготовления индиевых столбиков на временную кремниевую подложку наносят слой фоторезиста и слой индия. Проводят фотолитографическую обработку по слою индия с последующей сушкой в термостате или на горячей подложке. Режут временную подложку на кристаллы-доноры и осуществляют травление слоя индия до фоторезиста, в результате чего на кристалле-доноре сформировались индиевые столбики. Экспонируют кристаллы УФ-излучением и растворяют облученные слои фоторезистивной маски с индиевых столбиков и фоторезист между индиевыми столбиками. При этом фоторезист под столбиками не растворяется. Производят стыковку контактов рабочего кристалла и индиевых столбиков кристалла-донора, после чего состыкованные кристаллы обрабатываются в растворителе фоторезиста так, что кристалл-донор отделяется и индиевые столбики остаются на рабочем кристалле. Необходимую высоту индиевых столбиков на рабочем кристалле можно обеспечить неоднократным повторением переноса индиевых столбиков с кристалла-донора. Изобретение позволяет сохранить исходные электрофизические свойства ИК-материала. 2 з.п. ф-лы, 8 ил.
Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"