Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


БЕЗЭПИТАКСИАЛЬНАЯ СТРУКТУРА БИПОЛЯРНОГО ТРАНЗИСТОРА

Номер публикации патента: 2368036

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008100090/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L027/06    
Аналоги изобретения: RU 2210838 С2, 20.08.2003. RU 2141149 C1, 10.11.1999. WO 9505679 A1, 23.02.1995. EP 1128422 A1, 29.08.2001. 

Имя заявителя: Лукасевич Михаил Иванович (RU),
Петрова Юлия Владимировна (RU) 
Изобретатели: Лукасевич Михаил Иванович (RU)
Петрова Юлия Владимировна (RU) 
Патентообладатели: Лукасевич Михаил Иванович (RU)
Петрова Юлия Владимировна (RU) 

Реферат


Изобретение относится к микроэлектронике. В безэпитаксиальной структуре биполярного транзистора, включающей области коллектора, базы и эмиттера в пластине кремния, контакты к областям коллектора, базы и эмиттера, при этом контакты к областям базы и эмиттера осуществляются через электроды из поликристаллического кремния, изолирующий полевой окисел вокруг области базы транзистора и между областями базы и контакта к коллектору, первую высоколегированную область одного с областью коллектора типа проводимости, расположенную под полевым окислом, окружающим области базы с четырех сторон, вторую высоколегированную область одного с коллектором типа проводимости, располагаемую в коллекторе под областью активной базы, электрод эмиттера сформирован на окисле кремния по типу затвора МОП транзистора, при этом реальный размер области эмиттера определяется величиной торцевого травления слоя окисла кремния под электродом эмиттера, область эмиттера заполнена поликристаллическим кремнием, контакт к базе выполнен с помощью электрода из поликристаллического кремния, а вторая высоколегированная область одного с коллектором типа проводимости размещена только под областями активной базы на участках между областью эмиттера и полевым окислом. Техническим результатом изобретения является повышение быстродействия и степени интеграции биполярного транзистора. 3 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"