|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭКСПОНИРОВАННОЙ ПОДЛОЖКИ |  |
Номер публикации патента: 2344455 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G03F007/16 G03F007/20 | | Аналоги изобретения: | ЕР 1225477 А, 24.07.2002. US 6337163 B1, 08.01.2002. US 4255514 A, 10.03.1981. US 4255514 A, 10.03.1981. JP 2253610 A, 12.10.1990. JP 6163396 A, 10.06.1994. GB 1388167 A, 26.03.1975. JP 2001066407 A, 16.03.2001. US 5538753 A, 23.07.1996. US 3954469 А, 04.05.1976. WO 01/20402 A1, 22.03.2001. |
| Имя заявителя: | ГИЗЕКЕ УНД ДЕВРИЕНТ ГМБХ (DE) | | Изобретатели: | Виттих КАУЛЕ (DE) | | Патентообладатели: | ГИЗЕКЕ УНД ДЕВРИЕНТ ГМБХ (DE) |
Реферат | |
Способ изготовления резистной матрицы, которая имеет по меньшей мере два участка с различными изображениями на них и при изготовлении которой используют по меньшей мере два слоя фоторезистов, согласованных с типом создаваемых изображений, причем в слое первого и/или второго фоторезиста экспонированием формируют или записывают дифракционные структуры.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента