|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| УСТРОЙСТВО ВАКУУМНО - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ |  |
Номер публикации патента: 2312932 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | C23C014/32 | | Аналоги изобретения: | Anders A. and Kiihn M. Characterization of a low-energy constricted-plasma source." Rev. Sci. Instrum. 69,1998, 1340-1343. RU 2075538 C1, 20.03.1997. RU 2037561 C1, 19.06.1995. US 5503725 A, 02.04.1996. JP 2000239834 A, 05.09.2000. EP 0885981 A, 23.12.1998. |
| Имя заявителя: | НАЦИОНАЛЬНЫЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР "ХАРЬКОВСКИЙ ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ" (UA) | | Изобретатели: | Саблев Леонид Павлович (UA)
Шулаев Валерий Михайлович (UA)
Андреев Анатолий Афанасьевич (UA) | | Патентообладатели: | НАЦИОНАЛЬНЫЙ НАУЧНЫЙ ЦЕНТР "ХАРЬКОВСКИЙ ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ" (UA) |
Реферат | |
Изобретение относится к области вакуумно-плазменной обработке, в частности к устройству для вакуумно-плазменной обработки изделий, и может найти применение при изготовлении изделий с покрытиями. Устройство содержит рабочую камеру с анодом, сообщающуюся с ней, по крайней мере, через одно отверстие камеру с катодом и источник питания постоянного тока.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента