Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ФЛЭШ ЭЛЕМЕНТ ПАМЯТИ ЭЛЕКТРИЧЕСКИ ПЕРЕПРОГРАММИРУЕМОГО ПОСТОЯННОГО ЗАПОМИНАЮЩЕГО УСТРОЙСТВА

Номер публикации патента: 2310929

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2006110651/09 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G11C014/00   G11C016/14    
Аналоги изобретения: M.SHE et al, "Silicon Nitride as Tunnel Dielectric for Improved SONOS-Type Flash Memory", IEEE Electron Device Letters, V.24, N.5, 2003, p.p.309-311. RU 94016378 A1, 27.08.1996. S.MINAMI et al, "A 3-volt 1 Mbit full-Featured EEPROM Using a Highly-Reliable MONOS Device Technology", IECE Transaction on Electronics, v.E77-C, N.8, 1990, p.p.l260-1269. US 6713195 A, 30.03.2004. US 5365105 A, 15.11.1994. 

Имя заявителя: Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук (RU),Томский государственный университет (RU) 
Изобретатели: Гриценко Владимир Алексеевич (RU) 
Патентообладатели: Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук (RU)
Томский государственный университет (RU) 

Реферат


Изобретение относится к вычислительной технике, в частности к электрически перепрограммируемым постоянным запоминающим устройствам, сохраняющим информацию при отключении питания. Техническим результатом является повышение надежности флэш элемента памяти. Флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства содержит полупроводниковую подложку с выполненными в ней на планарной стороне истоком и стоком, туннельный слой, запоминающий слой, блокирующий слой и затв


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"