|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОСТРУКТУР |  |
Номер публикации патента: 2310896 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G02B005/18 | | Аналоги изобретения: | US 5138604 А, 11.08.1992. JP 2000264000 A, 26.09.2000. US 6043936 A, 28.03.2000. RU 2084010 С1, 10.07.1997. |
| Имя заявителя: | ОВД КИНЕГРАМ АГ (CH) | | Изобретатели: | ШИЛЛИНГ Андреас (CH)
ТОМПКИН Уэйн Роберт (CH) | | Патентообладатели: | ОВД КИНЕГРАМ АГ (CH) |
Реферат | |
Способ изготовления дифрагирующих свет микроструктур в слое фоторезиста на подложке, сформированных посредством наложений первой рельефной структуры, по меньшей мере, на одну вторую, служащую дифракционной структурой, рельефную структуру, включает в себя следующие этапы: а) изготовление слоя фоторезиста с первой рельефной структурой на плоской подложке, изготавливаемой отформовыванием рельефной матрицы, противоположной относительно подложки рельефной матрицы на свободной поверхности слоя; b) удал
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента