Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СТРУКТУРА КРЕМНИЙ - НА - ИЗОЛЯТОРЕ ДЛЯ СБИС

Номер публикации патента: 2230393

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2001132107/282001132107/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L027/06    
Аналоги изобретения: RU 2149482 C1, 20.05.2000. RU 2149481 C1, 20.05.2000. US 2001/0024863 A1, 27.09.2001. US 6281095 B1, 28.08.2001. US 5770511 A, 23.06.1998. 

Имя заявителя: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" (RU) 
Изобретатели: Горнев Е.С. (RU)
Сулимин А.Д. (RU)
Лукасевич М.И. (RU)
Дракин К.А. (RU)
Евдокимов В.Л. (RU)
Громов Д.Г. (RU)
Мочалов А.И. (RU)
Климовицкий А.Г. (RU) 
Патентообладатели: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" (RU) 

Реферат


Использование: при производстве СБИС, у которых на одном кристалле формируются как полевые, так и биполярные транзисторы. Сущность изобретения: структура кремний-на-изоляторе для СБИС содержит области кремния, изолированные первым слоем диэлектрика друг от друга и вторым слоем диэлектрика от кремниевой подложки, для размещения в них полевых и биполярных транзисторов.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"