|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ РЕАКТИВНОГО ИОННО - ПЛАЗМЕННОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ TA, TAN, TAAL |  |
Номер публикации патента: 2194335 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/3065 | | Аналоги изобретения: | DE 3045922, 08.07.1982. RU 2057204 C1, 27.03.1996. ЕР 0547884 А1, 23.06.1993. US 4411734 A, 25.10.1983. US 5112435 А, 12.05.1992. US 5160407 A, 03.11.1992. US 5219485 А, 15.06.1993. |
| Имя заявителя: | Акционерное общество открытого типа "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" | | Изобретатели: | Алексеев Н.В.
Еременко А.Н.
Еремчук А.И.
Клычников Н.И.
Ячменев В.В. | | Патентообладатели: | Акционерное общество открытого типа "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон" |
Реферат | |
Использование: технология изготовления ИС на этапе формирования резисторов и защитных металлических покрытий. Сущность изобретения: процесс реактивного ионно-плазменного травления пленок Та, TaN, TaAl в плазме BCl3-Cl2-CCl4-N2 с дотравливанием остатков этих пленок на рельефной поверхности в плазме CF4-O2 или SF6-O2.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента