|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ФОТОРЕЗИСТНАЯ КОМПОЗИЦИЯ И ПОЛИМЕР |  |
Номер публикации патента: 2194295 |  |
| Имя заявителя: | З БИ. ЭФ. ГУДРИЧ КАМПЭНИ (US) | | Изобретатели: | ГУДОЛ Брайен Л. (US)
ДЖАЯРАМАН Сайкумар (US)
РОУДЕЗ Ларри Ф. (US)
ШИК Роберт Э. (US) | | Патентообладатели: | З БИ. ЭФ. ГУДРИЧ КАМПЭНИ (US) |
Реферат | |
Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. Описывается фоторезистная композиция, содержащая генерирующий кислоту фотоинициатор, растворитель, необязательно, ингибитор растворения и полимер, содержащий повторяющиеся полициклические звенья, содержащие кислотно-лабильные группы, с молекулярной массой от около 500 до около 1000000, являющийся продуктом полимеризации полициклических мономеров, замещенных по меньшей мере одной кислотно-лабильной группой, и необязательн
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента