Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ РАССТОЯНИЯ ДО ИСТОЧНИКА ИЗЛУЧЕНИЯ

Номер публикации патента: 2179707

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2001108790/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01C003/00   G02B027/42   G02B005/18   G01D005/34   G01D005/38    
Аналоги изобретения: US 4218615, 19.08.1980. GB 2241780 А, 11.09.1991. US 5671050, 23.09.1997. US 4299489, 10.11.1981. US 5786896, 28.07.1998. US 5703675, 30.12.1997. US 4629886, 16.12.1986. US 5838000, 17.11.1998. FR 2667679 А, 10.04.1992. 

Имя заявителя: Общество с ограниченной ответственностью "Инсмат Технология" 
Изобретатели: Щетников А.А.
Ашкиназий Я.М.
Чеглаков А.В.
Федоров Е.Н. 
Патентообладатели: Общество с ограниченной ответственностью "Инсмат Технология" 

Реферат


Изобретение относится к области оптических измерений и может быть использовано для измерения расстояния до излучающего объекта, в частности для определения расстояния до точечного источника света. Способ определения расстояния до источника S0 (S1) излучения включает формирование изображения S0 1 (S1 1) источника излучения с помощью оптической системы и сопоставление этого изображения S0 1 (S1 1) с заранее известной зависимостью функции отклика этой оптической системы от расстояния до источника S0 (S1) излучения. При этом отклик оптической системы модифицируют посредством установленной в ходе лучей амплитудно-фазовой маски, которую формируют с возможностью отклонения этих лучей в направлении, преимущественно ортогональном направлению отклонения лучей, вызываемому дефокусировкой, а при сопоставлении этого изображения S0 1 (S1 1) с указанной функцией отклика оценивают угол поворота изображения S0 1 (S1 1) источника S0 (S1) излучения. Оптимально, чтобы коэффициент пропускания амплитудно-фазовой маски был задан в виде периодической функции от угла поворота. В этом случае при оценке угла поворота определяют изменение фазы сигнала формируемого изображения S0 1 (S1 1) источника S0 (S1) излучения. Технический результат - повышение точности и экономичности измерений за счет возможности оценивания расстояния до любой точки поверхности объекта и восстановления его формы по одному снимку изображения излучающего объекта. 1 з. п. ф-лы, 4 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"