Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ИЗЛУЧАЮЩИЙ ДИОД

Номер публикации патента: 2179353

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 99123857/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L033/00    
Аналоги изобретения: Разработка базовых технологических процессов изготовления мощных излучающих диодов: Отчет НИИПП, 1987, Гос. регистрация № Ф25265. RU 2133068 С1, 10.07.1999. RU 21340000 C1, 27.07.1999. DE 3506995 A, 28.06.1986. JP 58-13037 А, 11.03.1983. 

Имя заявителя: Федеральное государственное унитарное предприятие "НИИПП" 
Изобретатели: Вилисов А.А.
Карлова Г.Ф.
Криворотов Н.П.
Хан А.В. 
Патентообладатели: Федеральное государственное унитарное предприятие "НИИПП"
Вилисов Анатолий Александрович
Карлова Геля Федоровна
Криворотов Николай Павлович
Хан Александр Владимирович 

Реферат


Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к полупроводниковым излучающим диодам и может быть использовано для создания мощных источников электромагнитного излучения инфракрасного (ИК) и видимого диапазона спектра в оптических и электронно-оптических системах, предназначенных для использования в различных областях техники. Технический результат изобретения заключается в повышении мощности излучения. Сущность: полупроводниковый излучающий диод содержит многомезовый кристалл с p-n переходом и токоподводящими к n- и p-областям омическими контактами, световыводящую линзу, плоское основание которой превышает по размеру поверхность кристалла. Световыводящая линза размещена основанием на поверхности кристалла, световыводящая поверхность кристалла выполнена с образующими матрицу канавками, а один из омических контактов выполнен в виде слоя металлизации, расположенного в канавках матрицы и по периметру световыводящей поверхности кристалла. При этом появляется возможность расширения слоя металлизации на основание линзы, не занятое кристаллом. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"