|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ГАЗОРАЗРЯДНЫЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ ВЫСОКОЙ ПЛОТНОСТИ С НИЗКОИМПЕДАНСНОЙ АНТЕННОЙ |  |
Номер публикации патента: 2171555 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H05H001/46 H01J037/32 | | Аналоги изобретения: | US 5580385 А, 03.12.1996. RU 2133998 С1, 27.07.1999. US 5591493 А, 07.01.1997. US 6016131 А, 18.01.2000. EP 0413282 А2, 20.02.1991. WO 00/00993 А1, 06.01.2000. |
| Имя заявителя: | Берлин Евгений Владимирович | | Изобретатели: | Берлин Е.В. | | Патентообладатели: | Берлин Евгений Владимирович |
Реферат | |
Использование: в устройствах для генерации плазмы высокой плотности с помощью полей ВЧ диапазона, в частности в плазменных устройствах для травления и нанесения покрытий на подложках размером 150мм и более. Сущность изобретения: источник ионов высокой плотности содержит рабочую камеру, выполненную преимущественно из металла, средства для управления давлением газа в рабочей камере, генератор переменного напряжения высокой частоты, соединенный с возбуждающей ВЧ поле внутри рабочей камеры антенной, которая помещена внутрь рабочей камеры. Антенна выполнена в виде проводящей спирали, причем пространство между витками спирали заполнено диэлектриком, а сама спираль отделена от рабочей камеры слоем диэлектрика. Использование малой толщины диэлектрика дает возможность эффективной трансформации тока, текущего по антенне, в плазменный ток. Выполнение антенны в виде многозаходной спирали позволяет снизить как реактивный, так и активный импеданс, облегчая ее согласование с генератором. Спираль выполнена из проводящей шины, высота которой превышает толщину спирали и толщину диэлектрика, отделяющего антенну от рабочей камеры не менее чем в три раза, а расстояние между соседними витками спирали выбрано в определенных пределах. Техническим результатом изобретения является повышение эффективности генерации тока в плазме и упрощение согласования антенны с высокочастотным генератором за счет уменьшения индуктивного импеданса антенны, обуславливающего ограничение ВЧ тока, возбуждаемого в плазме в рабочем режиме. 10 з.п. ф-лы, 11 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента