|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛОДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ТОНКИХ ПЛЕНОК |  |
Номер публикации патента: 2169207 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | C23C014/06 H05K001/16 | | Аналоги изобретения: | US 4750003 A, 07.06.1988. JP 9219587 A, 19.08.1997. JP 9130044 A, 16.05.1997. JP 9055336 A, 25.02.1997. JP 9018147 A, 17.01.1997. DE 4103105 C2,13.05.1993. DE 2730202 С, 17.11.1988. RU 2076475 C1, 27.03.1997. |
| Имя заявителя: | Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) | | Изобретатели: | Ивашов Е.Н.
Андреева Л.Л.
Чеботарева И.В. | | Патентообладатели: | Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) |
Реферат | |
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в способах получения металлодиэлектрических тонких пленок, например, для изготовления конденсаторов большой емкости. В основу изобретения положена задача получения конденсаторов большой емкости. Задача решается тем, что в способе получения металлодиэлектрических тонких пленок путем вакуумного напыления последовательно расположенных на подложке слоев диэлектрического и проводящего материалов подложку выполняют металлической и слои
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента