Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ВЫЯВЛЕНИЯ СТРУКТУРНЫХ ДЕФЕКТОВ В МОНОКРИСТАЛЛАХ

Номер публикации патента: 2151445

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 98108390/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/66    
Аналоги изобретения: САНГВАЛ К. Травление кристаллов. Теория, эксперимент, применение, перевод с англ. - М.: Мир. 1990, с. 392 - 403. МИЛЬВИДСКИЙ М.Г., ЛАЙНЕР Л.В. К методике выявления дислокации в монокристаллах кремния. Заводская лаборатория. 1962, т. 28, N 4, с. 459 - 462. ЗАЙЦЕВ А.А. и др. Рентгенодифракционные методы контроля структур кремния на сапфире. Электронная техника. Сер. 2. 1986, вып. 5(189), с. 40 - 43. RU 2033660 C1, 20.04.1995. GB 2244327 A, 27.11.1991. 

Имя заявителя: Научно-исследовательский институт измерительных систем 
Изобретатели: Скупов В.Д.
Смолин В.К.
Кормишина Ж.А. 
Патентообладатели: Научно-исследовательский институт измерительных систем 

Реферат


Использование: для анализа структурных дефектов в кристаллах на различных этапах изготовления дискретных полупроводниковых приборов и интегральных схем. Сущность изобретения: производят деформирование кристалла приложением к нему механической нагрузки, затем производят химическое травление в избирательно действующем на дефекты растворе, кристалл до травления деформируют путем обработки его в химически неактивной жидкости ультразвуком с частотой 20-40 кГц в течение 10-30 мин. Технический результат изобретения - повышение чувствительности избирательного химического травления к структурным дефектам в монокристаллах. 2 табл.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"