|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ГЛУБИНЫ ЗАЛЕГАНИЯ МОДИФИЦИРОВАННОГО ПРИПОВЕРХНОСТНОГО СЛОЯ В ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЕНКЕ |  |
Номер публикации патента: 2148853 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | G03F007/26 | | Аналоги изобретения: | Валиев К.А. и др. Фотолитографические процессы с использованием газофазной химической модификации фоторезистов. Сб.Проблемы микроэлектронной технологии. - М.: Наука, 1992, с.100. EP 0451329 A2, 16.10.1991. US 5409538 A, 25.04.1995. EP 0502533 A2, 09.09.1992. Боков Ю.С. и др. Исследование механизма локального химического модифицирования пленок фоторезистов на примере силилирования гексаметилдисилазанов. Электронная техника, сер.3, Микроэлектроника, 1991. Вып.1(140), с.17-25. |
| Имя заявителя: | Воронежский государственный университет | | Изобретатели: | Урывский Ю.И.
Чуриков А.А. | | Патентообладатели: | Воронежский государственный университет |
Реферат | |
Изобретение относится к технике газофазной химической модификации приповерхностного слоя полимерных пленок, в частности фоторезистных, и может быть использовано на операциях контроля фотолитографических процессов, а также любых других пленок, прозрачных в видимой области спектра на отражающих подложках. Сущность: предложенный способ определения глубины залегания модифицированного посредством процесса силилирования приповерхностного слоя осуществляется путем измерения концентрационно-зависимого параметра, по изменению которого судят об изменении глубины залегания слоя. При этом в качестве концентрационно-зависимого параметра выбирают показатель преломления облученного светом приповерхностного модифицированного слоя полимерной пленки. После чего определяют глубину залегания модифицированного слоя по формуле dм = d(nпл. - nэф.)/(nпл. - nм), где d - исходная толщина полимерной пленки; dм - глубина залегания модифицированного приповерхностного слоя; nпл - показатель преломления пленки после ее формирования; nм - показатель преломления полностью промодифицированной пленки; nэф - изменяющееся в процессе модифицирования и контролируемое эффективное значение показателя преломления пленки, и при достижении заданной величины dм прекращают процесс. Технический результат изобретения заключается в повышении качества процесса модифицирования полимерных пленок, в частности фоторезистных. 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента