Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ УДАЛЕНИЯ ЗАГРЯЗНЕНИЙ С ОБРАБАТЫВАЕМОЙ ИЗЛУЧЕНИЕМ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2136467

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 95119598 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: B23K026/00   B08B007/00    
Аналоги изобретения: US 5024968 A, 18.05.91. JP 60-129136 A, 10.07.85. US 4814578 A, 21.05.89. SU 1798090 A1, 28.02.93. 

Имя заявителя: Колдрон Лимитед Партнершип (US) 
Изобретатели: Энгельсберг Одрей С. (US) 
Патентообладатели: Колдрон Лимитед Партнершип (US) 
Номер конвенционной заявки: 08/045,165 
Страна приоритета: US 

Реферат


Способ включает в себя стадии: введения ламинарного потока газа по упомянутой обрабатываемой поверхности, причем упомянутый газ является инертным в отношении обрабатываемой поверхности, и облучения упомянутой обрабатываемой поверхности излучением высоких энергий, причем упомянутое излучение обладает плотностью энергии и длительностью воздействия, достаточными для удаления поверхностных загрязнений с обрабатываемой поверхности и недостаточными для изменения кристаллической структуры обрабатываемой поверхности. Упомянутый газовый поток поддерживают по обрабатываемой поверхности подложки в ламинарном режиме без образования зон обратного потока. Изобретение также раскрывает устройство для удаления поверхностных загрязнений с обрабатываемой поверхности подложки при сохранении кристаллической структуры обрабатываемой поверхности. Техническим результатом предложенного изобретения является получение возможности качественного удаления поверхностных загрязнений с поверхности подложки без изменения молекулярной кристаллической структуры или иного нарушения обрабатываемой поверхности, а также без повторного осаждения удаляемых частиц загрязнений на поверхности подложки. 2 с. и 27 з.п.ф-лы, 3 табл., 42 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"