|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК |  |
Номер публикации патента: 2135633 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/22 | | Аналоги изобретения: | Плешивцев Н.В., Семашко Н.Н. Итоги науки и техники, сер. Физические основы лазерной и пучковой технологии. -М.: ВИНИТИ, 1989, т. 5, с. 87 - 89. ЕР 0269112 А3, 01.06.88. ЕР 0401035 А2, 05.12.90. DE 3839903 А1, 08.06.89. EP 0418091 A2, 20.03.91. RU 2066704 С1, 20.09.96. |
| Имя заявителя: | Институт ядерной физики СО РАН | | Изобретатели: | Волосов В.И.
Чуркин И.Н.
Стешов А.Г. | | Патентообладатели: | Институт ядерной физики СО РАН |
Реферат | |
Изобретение относится к технической физике, в частности к способу вакуумного нанесения тонких пленок на поверхность твердого тела. Изобретение направлено на снижение затрат на производство, реализующее вышеуказанный способ, включая эксплуатационные расходы, повышение производительности и стабильность в работе, а также улучшение качества получаемых тонких пленок. Способ включает одновременное осаждение медленных атомов вещества и облучение поверхности ускоренными частицами, при этом в качестве ускоренных частиц используют ускоренные до энергии не менее 300 эв атомы как осаждаемого вещества, так и других веществ, при этом медленные и ускоренные атомы могут создаваться как одним источником, так и раздельными источниками. Твердое тело может находиться в атмосфере активного газа. 1 з.п.ф-лы, 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента