|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТУГОПЛАВКИХ ТОНКОДИСПЕРСНЫХ ПОРОШКОВ |  |
Номер публикации патента: 2133145 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | B01J002/04 B22F009/00 | | Аналоги изобретения: | Сурис А.Л. Плазмохимические процессы и аппараты. - М.: Химия, 1989, с.44, 48. 49, 200 - 205. RU 2052908 C1, 1996. DE 4117141 NA1, 1992. FR 2078508 A, 1971. |
| Имя заявителя: | Сибирский химический комбинат | | Изобретатели: | Дедов Н.В.
Деменко А.А.
Завьялов А.В.
Кондаков В.М.
Курага Б.И.
Кутявин Э.М.
Матюха В.А.
Сенников Ю.Н.
Соловьев А.И.
Составкин О.И. | | Патентообладатели: | Сибирский химический комбинат |
Реферат | |
Изобретение предназначено для получения тонкодисперсных порошков путем термохимического разложения жидких распыленных реагентов в высокотемпературном теплоносителе. Способ получения тонкодисперсных порошков из жидких реагентов включает термохимическое разложение последних распылением в потоке высокотемпературного газового теплоносителя в прямоточном цилиндрическом реакторе с вихревой защитой поверхности реакционного канала. В начальной стадии процесса на поверхности реакционного канала формируют футерующий слой из частиц конечного продукта установлением скорости подачи газа на вихревой обдув до значения, в 4 - 4,7 раз превышающего скорость основного потока, а после формирования футерующего слоя скорость подачи газа на вихревой обдув снижают до обычно используемого значения. Формирование футерующего слоя проводят до снижения температуры наружной стенки аппарата с начала формирования слоя на 100 - 150oC. Изобретение обеспечивает уменьшение частоты остановок процесса для зачистки оборудования, снижение содержания примесей в конечном продукте и повышение его однородности, повышение тепловой эффективности процесса. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента