|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СОСТАВ РАЗБАВИТЕЛЯ ДЛЯ СМЫВАНИЯ НЕНУЖНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНЕ В ПРОЦЕССЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ УСТРОЙСТВ (ВАРИАНТЫ) И СПОСОБ СМЫВАНИЯ НЕНУЖНОГО ФОТОРЕЗИСТА (ВАРИАНТЫ) |  |
Номер публикации патента: 2126567 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/306 G03F007/32 | | Аналоги изобретения: | KR 90-5345, 1990. RU 2047931 C1, 1995. EP 0054412 A2, 1982. EP 0345757 A2, 1989. JP 5326112 B2, 1978. |
| Имя заявителя: | Самсунг Электроникс Ко, Лтд. (KR) | | Изобретатели: | Санг-мун Чон (KR)
Бу-суп Ли (KR)
Сунг-ил Ким (KR)
Юн-инг Джил (KR)
Пил-квон Юн (KR)
Ми-сук Юн (KR) | | Патентообладатели: | Самсунг Электроникс Ко, Лтд. (KR) | | Номер конвенционной заявки: | 96-41507 | | Страна приоритета: | KR |
Реферат | |
Использование: для смывания ненужного фоторезиста в процессе изготовления полупроводниковых устройств. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности удаления ненужного фоторезиста по краю и на оборотной стороне пластины составом, обладающим достаточным коэффициентом растворимости для фоторезиста, но практически нетоксичным для человеческого организма. Сущность изобретения: состав разбавителя для смывания ненужного фоторезиста на пластине в процессе изготовления полупроводников содержит этиллактат (EL), этил-3-этоксипропионат (ЕЕР) с предпочтительным добавлением гамма-бутиролактона. Остаток фоторезиста, приставшего к поверхности, может быть полностью удален, что допускает повторное и экономичное использование пластин. 4 с. и 12 з.п. ф-лы, 4 табл., 2 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента