|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| РЕЛЬСОВЫЙ ПЛАЗМАТРОН ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ |  |
Номер публикации патента: 2124069 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/35 C23C004/00 H01J017/00 | | Аналоги изобретения: | SU 1503672 A, 30.04.93. DE 3830086 A1, 01.02.90. EP 0287258, 19.10.88. RU 2092981 C1, 10.10.97. SU 1145049 A, 15.03.85. |
| Имя заявителя: | Егоров Олег Георгиевич | | Изобретатели: | Егоров О.Г. | | Патентообладатели: | Егоров Олег Георгиевич |
Реферат | |
Рельсовый плазматрон для получения покрытий на поверхности диэлектрических материалов, содержащий два электрода - анод и катод, расположенные параллельно друг другу, магнитную систему для создания однородного магнитного поля между электродами по всей длине, средства для зажигания и гашения дугового разряда и токоподводы, при этом средства для зажигания и гашения дугового разряда установлены на противоположных концах электродов и связаны с дополнительно введенным средством для синхронизации их работы, причем по крайней мере катод выполнен со сквозными капиллярными каналами и снабжен емкостью для испаряемого материала, электроды размещены в воздушном зазоре магнитной системы, которая выполнена в виде снабженных общим магнитопроводом 2N постоянных магнитов прямоугольного сечения, намагниченных в осевом направлении и расположенных попарно соосно между собой на одинаковом расстоянии между разноименными полюсами по обе стороны относительно плоскости расположения электродов и под одним и тем же острым углом к ее положительной нормали, оси симметрии N пар постоянных магнитов расположены в параллельных плоскостях, расстояние между которыми равно соответствующему размеру постоянных магнитов, при этом угол β между положительной нормалью к поверхности расположения электродов и вектором  индукции магнитного поля в воздушном зазоре магнитной системы удовлетворяет соотношению 180°< β > 225°, а компонента  вектора индукции магнитного поля направлена в сторону зажигания дугового разряда. Изобретение позволяет расширить области использования при одновременном упрощении конструкции устройства. 3 з.п. ф-лы, 5 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента