|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИМПУЛЬСНО - ПЕРИОДИЧЕСКОЙ ИОННОЙ И ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 2113538 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/32 C23C014/48 C23C014/56 | | Аналоги изобретения: | SU, авторское свидетельство, 1412517, H 01 J 37/317, 1990. SU, авторское свидетельство, 1764335, C 23 C 14/32, 1994. |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | | Изобретатели: | Рябчиков А.И.
Дектярев С.В. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете |
Реферат | |
Способ импульсно-периодической ионной и плазменной обработки изделий и устройство для его осуществления относятся к области технической физики и предназначены для изменения свойств поверхностных слоев изделий путем ионной имплантации или плазменным осаждением покрытий в условиях импульсно-периодической ионной имплантации. Способ предусматривает поочередную обработку изделий плазмой дугового разряда и импульсами ионов, ускоряемых из этой плазмы. Генерацию плазмы осуществляют непрерывно. Соотношение доз облучения ускоренными ионами и плазмой регулируют за счет изменения частоты следования, длительности импульсов ускоряющего напряжения изменения расстояния от источника ионов и плазмы до изделия. Устройство для реализации способа содержит вакуумно-дуговой испаритель в виде коаксиальных наружного анода и внутреннего катода, снабженного узлом поджига, и импульсную систему ускорения ионов из плазмы испарителя. Вакуумно-дуговой испаритель выполнен с постоянным источником питания дуги и снабжен средством для стабилизации горения непрерывной дуги и устройством очистки плазмы от микрокапельной фракции. Для стабилизации горения непрерывной дуги на аноде расположены магнитные катушки с наружным экраном из магнитного материала, через обмотки которых к аноду подключен источник питания дуги, а магнитный экран электрически соединен с анодом. Устройство очистки плазмы от микрокапельной фракции расположено у открытого торца анода и выполнено в виде коаксиальной системы жалюзных электродов, выполненный в виде коаксиальных усеченных полых конусов. Форма каждого электрода близка к форме силовых линий магнитного поля в месте расположения электродов. Жалюзная система подключена к положительному выводу дополнительного источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду. 3 з. п. ф-лы, 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента