На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОТРИЦАТЕЛЬНЫХ ИОНОВ В ПОВЕРХНОСТНО - ПЛАЗМЕННЫХ ИСТОЧНИКАХ

Номер публикации патента: 2109367

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  96111690		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к поверхностно-плазменным источникам отрицательных ионов, а именно к способам получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках, и может быть использовано в ускорителях заряженных частиц или устройствах для осуществления термоядерного синтеза. Способ получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках заключается в том, что в качестве поверхности электрода-конвертора для генерации отрицательных ионов в источнике используют поверхность, получаемую с помощью магнитного керамического порошка, нанесенного на поверхность электрода, выполненного из материала, обладающего магнитными свойствами. Магнитный керамический порошок удерживается на поверхности электрода за счет собственного магнитного поля, при этом наличие собственного замкнутого магнитного поля вблизи поверхности, а также между отдельными частицами порошка позволяет снизить вероятность выхода свободных электронов в плазму и соответственно увеличить выход отрицательных ионов. Сепарация отрицательных ионов и электронов происходит не только в разрядной камере источника, но и на поверхности, полученной с помощью магнитного керамического порошка. Условия генерации отрицательных ионов на поверхности магнитного керамического порошка не изменяют в процессе работы источника. Магнитный керамический порошок получают из барийферритового магнита. 2 з.п. ф-лы.

Вернуться к списку