Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


БИКМОП - ПРИБОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Номер публикации патента: 2106719

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 96109062 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L027/06   H01L021/8248    
Аналоги изобретения: 1. US, патент 5117274, МКИ H 01L 27/02, 1992. 2. EP, заявка 0325342, А2, МКИ H 01L 21/82, 1989. 3. DE, патент 4139490, А1, МКИ H 01L 27/06, 1993. 

Имя заявителя: Акционерное общество открытого типа "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники и завод "Микрон" 
Изобретатели: Красников Г.Я.
Казуров Б.И.
Лукасевич М.И. 
Патентообладатели: Акционерное общество открытого типа "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники и завод "Микрон" 

Реферат


Использование: БиКМОП-приборы, у которых на одном кристале формируются комплементарные биополярные и полевые транзисторы, а также технология изготовления вертикальных NPN и PNP полевых транзисторов и комплементарных полевых транзисторов. Сущность изобретения: конструкция БиКМОП-прибора позволяет существенно снизить размеры транзисторов благодаря использованию самосовмещенной технологии формирования биополярных и полевых транзисторов. В предлагаемой конструкции первый вертикальный биполярный транзистор включает эммитерный электрод из второго слоя поликремния над эммитерной областью, базовые электроды к двум областям пассвной базы и коллекторный электрод из тертьего слоя поликремния, самосовмещенные металлические силицидные слои к базовым, эмиттерному и коллекторному электродам, металлические электроды, выполненные к базовым, к эмиттерному и коллекторному электродам, при этом второй биполярный транзистор имеет такую же структуру, как и первый вертикальный биполярный транзистор, с типом проводимости, противоположным типу проводимости первого вертикального биполярного транзистора, первый МОП-транзистор содержит истоковую и стоковую области, разделенные канальной областью, затвор из первого и второго слоя поликремния и металлического силицилового слоя, нанесенные на подзатворный диэлектрик, электроды из третьего слоя поликремния к области стока и истока, введенные на полевой окисел и покрытые металлическим силицидным слоем, металлические электроды, контактирующие к областям истока и стока через электроды из третьего слоя поликремния, выведенные на полевой окисел, второй МОП-транзистор имеет такую же структуру, как и первый МОП-транзистор, с типом проводимости, противоположным типу проводимости первого МОП-транзистора. 2 с.п. ф-лы, 12 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"