|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| УСТАНОВКА ДЛЯ МИКРОВОЛНОВОЙ ВАКУУМНО - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД |  |
Номер публикации патента: 2106716 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01J037/32 | | Аналоги изобретения: | 1. EP, патент, 0275965, кл. H 01 J 37/32, 1988. 2. EP, патент, 0286132, кл. H 01 J 37/32, 1988. |
| Имя заявителя: | Яфаров Равиль Кяшшафович | | Изобретатели: | Яфаров Равиль Кяшшафович | | Патентообладатели: | Яфаров Равиль Кяшшафович |
Реферат | |
Относится к вакуумно-плазменной обработке слоев и пленок материалов микроэлектроники потоками ионов, атомов и радикалов в плазме инертных или химически активных газов. Установка для микроволновой вакуумно-плазменной обработки конденсированных сред содержит последовательно соединенные микроволновый генератор 1, круглый одномодовый волновод 3, согласованный переход 5, выполненный многоступенчатым, и многомодовую операционную камеру 6, устройства 10 для создания продольного магнитного поля, выполненные в виде многосекционного соленоида, секции которого установлены на первых двух от круглого волновода 3 ступенях согласованного перехода 5, секцию 11 с попарно соединенными электромагнитами для создания радиального вращающегося магнитного поля, установленную между устройствами 10, мультипольную магнитную систему 12, выполненную в виде набора постоянных магнитов, размещенных на операционной камере 6 для обеспечения появления по ее периферийной области электронного циклотронного резонанса. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента