|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ФОТОЛИТОГРАФИИ |  |
Номер публикации патента: 2096935 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05K003/06 H01L021/30 | | Аналоги изобретения: | 1. Введение в фотолитографию / Под ред.В.П.Лаврещева. - М.: Энергия, 1977, с.279. 2. HU, патент, 193179, кл.H 05K 3/06, 1988. |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский институт измерительных систем | | Изобретатели: | Смолин В.К.
Донина М.М. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский институт измерительных систем |
Реферат | |
Использование: изобретение относится к электронной технике. Сущность изобретения: на подложку наносят первый слой позитивного фоторезиста, проводят его сушку и экспонирование без шаблона, затем наносят второй слой позитивного фоторезиста, проводят его сушку, экспонируют через шаблон и проявляют рисунок в двухслойной пленке, при этом величину экспозиции первого слоя фоторезиста tЭ1 выбирают равной (0,5 - 0,6)tЭ2, где tЭ2 - значение величины экспозиции второго слоя в диапазоне фотографической широты применяемого фоторезиста. 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента