Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СУБЛИМАЦИОННЫЙ СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ КАРБИДА КРЕМНИЯ И ИСТОЧНИК КАРБИДА КРЕМНИЯ ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ СПОСОБА

Номер публикации патента: 2094547

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 96101450 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C30B023/00   C30B029/36    
Аналоги изобретения: US, патент, 4866005, кл.H 01L 21/205, 1989. DE, патент, 3230727, кл.C 30B 29/36, 1984. US, патент, 4147572, кл.H 01L 21/203, 1979. 

Имя заявителя: Водаков Юрий Александрович 
Изобретатели: Водаков Юрий Александрович
Мохов Евгений Николаевич
Рамм Марк Григорьевич
Роенков Александр Дмитриевич
Макаров Юрий Николаевич
Карпов Сергей Юрьевич
Рамм Марк Спиридонович
Темкин Леонид Иосифович 
Патентообладатели: Водаков Юрий Александрович
Мохов Евгений Николаевич
Рамм Марк Григорьевич
Роенков Александр Дмитриевич
Макаров Юрий Николаевич
Карпов Сергей Юрьевич
Рамм Марк Спиридонович
Темкин Леонид Ио 

Реферат


Использование: в технологии изготовления полупроводниковых приборов. Сущность изобретения: сублимационный способ выращивания монокристаллов карбида кремния, включающий параллельное размещение друг напротив друга испаряющей поверхности источника карбида кремния и ростовой поверхности по меньшей мере одного затравочного монокристалла карбида кремния заданного политипа, образующих зону роста, создание в зоне роста пониженного давления и поля рабочих температур с осевым градиентом в направлении от затравочного монокристалла к источнику, обеспечивающих испарение карбида кремния источника и кристаллизацию карбида кремния из паровой фазы на ростовой поверхности затравочного монокристалла, отличающийся тем, что зону роста герметизируют до достижения в ней рабочих температур, при этом процесс ведут в присутствии в зоне роста твердого раствора тантала и кремния в тантале и их химических соединений. При этом источник карбида кремния и затравочный монокристалл помещают в контейнер, выполненный с возможностью герметизации, материал внутренней поверхности которого представляет собой твердый раствор карбидов тантала и кремния в тантале и их химические соединения, а объем контейнера ограничен плоскостью закрепления затравочного монокристалла, а с боковых сторон периметром зоны роста и источника может быть использован монокристалл карбида кремния политипа 4Н, при этом в зону роста дополнительно вводят пары олова. В качестве материала источника для выращивания монокристаллов порошка при температуре, обеспечивающей частичную пересублимацию зерен карбида кремния. 2 с. и 3 з. п. ф-лы, 2 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"