|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БИМЕТАЛЛИЧЕСКОГО СЛИТКА |  |
Номер публикации патента: 2087561 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C22B009/18 | | Аналоги изобретения: | 1. Заявка Японии N 52-120921, кл. B 22 D 27/02, 1977. 2. Коннов Ю.П. и др. Электрошлаковая наплавка с вертикальным расположением заготовки. Сталь. 1993, N 5, с. 26 - 30. |
| Имя заявителя: | Родионова Ирина Гавриловна | | Изобретатели: | Родионова И.Г.
Гришин В.А.
Пузачев В.И.
Шарапов А.А.
Зуев С.А.
Рыбкин А.Н.
Ефимов О.П.
Дружинин Ю.В.
Портареско В.В.
Кравчук В.Н.
Курлыкин В.Н.
Ногина М.М.
Просихин П.А.
Зуев В.А.
Иванов В.Н.
Лебедев Ю.Н. | | Патентообладатели: | Родионова Ирина Гавриловна
Гришин Владимир Александрович
Пузачев Василий Ильич
Шарапов Арнольд Алексеевич
Зуев Сергей Алексе |
Реферат | |
Изобретение относится к области специальной электрометаллургии, конкретнее к производству биметалла с использованием электрошлаковой технологии. Технический результат изобретения заключается в обеспечении равномерности толщины и химического состава наплавленного слоя, повышении качества поверхности биметаллического слитка при сохранении высокого качества соединения слоев. Указанный технический результат достигается тем, что в способе получения биметаллического слитка, включающем размещение в кристаллизаторе с зазором с одной из его стенок металлической заготовки, являющейся одним из слоев биметаллического слитка, установку расходуемого электрода в этом зазоре, наведение на поддоне в зазоре между стенкой кристаллизатора и металлической заготовкой шлаковой ванны и переплав в ней расходуемого электрода с формированием направленного слоя биметаллического слитка, согласно изобретению формирование наплавленного слоя ведут со скоростью, назначенной в соответствии с соотношением: Vф. - 3,6·(1-0,3·Н1/Н2) 0,3 (1), где Vф. - скорость формирования наплавленного слоя, кг/мин, Н1 - величина зазора между стенкой кристаллизатора и наплавляемой поверхностью заготовки, мм, Н2 - толщина заготовки, мм, а сопротивление шлаковой ванны (R) назначают в соответствии с соотношением: R = 2,5·B2/B1 0,2 (2), где R - сопротивление шлаковой ванны, мом, B1 - ширина электрода, мм, B2 - ширина заготовки, мм.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента