|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ОПТИМИЗАЦИИ ПАРАМЕТРОВ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК НА ПОДЛОЖКЕ |  |
Номер публикации патента: 2086038 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/205 | | Аналоги изобретения: | 1. Соболь И.М., Статников Р.Б. Выбор оптимальных параметров в задачах со многими критериями.- М.: Наука, 1981, с. 20. 2. Optimization of glow discharge deposition of amorphous Silicon solar cells/Jian-ming Shu, Shu-Cie Wang, Ru-Guang Chend//20 th IEEE Photovoltaic Spec.Conf., Las Vegas., Nev., Sept. 26 - 30, 1988, conf.Rec. vol. 1 - New Jork, 1988, p. 296 - 300. |
| Имя заявителя: | Лупачева Алла Наумовна | | Изобретатели: | Лупачева А.Н.
Громадин А.Л.
Дроздов Ю.А. | | Патентообладатели: | Лупачева Алла Наумовна
Громадин Александр Львови |
Реферат | |
Использование: для оптимизации параметров технологического процесса осаждения пленок из газовой фазы. Сущность изобретения: способ позволяет при ограниченном числе экспериментов в многомерном пространстве внешних регулируемых технологических параметров определить область параметров, обеспечивающую высокую скорость осаждения и оптимальные заданные параметры пленки с высокой однородностью по площади подложкодержателя. В процессе газофазного осаждения пленок на подложки в газовую фазу вводят, по крайней мере, одну газообразную примесь - индикатор и периодически или ступенеобразно изменяют ее концентрацию при синхронном изменении одного из оптимизируемых технологических параметров процесса осаждения. 4 з.п. ф-лы, 6 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента